知識(shí)經(jīng)濟(jì)時(shí)代,專利作為一個(gè)企業(yè)乃至整個(gè)國家提高核心競爭力的戰(zhàn)略資源,凸顯出前所未有的重要地位。
技術(shù)交底資料,是專利申請人(發(fā)明人)與專利代理人溝通的資料,是給專利代理人交代要申請專利的技術(shù)方案的資料。在專利權(quán)授予后,權(quán)利要求書是確定發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)范圍的根據(jù),也是判斷他人是否侵權(quán)的根據(jù),有直接的法律效力。進(jìn)行權(quán)利要求的撰寫必須十分嚴(yán)格、準(zhǔn)確、具有高度的法律和技術(shù)方面的技巧。
為了回饋多年來眾多企業(yè)、及各所高校對我所的支持和信任,北京高沃律師事務(wù)所決定在 全國多個(gè)城市 舉辦關(guān)于技術(shù)交底書與權(quán)利要求書的撰寫技巧交流會(huì)。現(xiàn)場為大家講解和溝通交流在專利申請文件撰寫過程中的相關(guān)問題,您可根據(jù)日程安排,自行選擇城市參會(huì),期待您的蒞臨。現(xiàn)將參會(huì)相關(guān)事項(xiàng)通知如下:
會(huì)議信息
會(huì)議主題:站在全流程的角度談從技術(shù)交底書到權(quán)利要求書的撰寫
主講老師:前國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利審查員
主辦單位:北京高沃律師事務(wù)所
日程安排


報(bào)名費(fèi)用
為回饋廣大客戶,本次交流會(huì)為公益性質(zhì),但是為了使更多客戶受益,故每個(gè)單位只有一個(gè)免費(fèi)名額,若有超出人員,每人需260元參會(huì)費(fèi)。
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